|
题名:
|
含硅聚合物 [ 专著] han gui ju ge wu / (美)理查德 G. 琼斯(Richard G. Jones)，(日)安藤亘(Wataru Ando)， (波)朱利安·乔努斯基(Julian Chojnowski)等著 , 冯圣玉，栗付平，李美江等译 |
|
ISBN:
|
978-7-122-01724-6 价格： CNY88.00 |
|
语种:
|
chi |
|
载体形态:
|
574页 图，照片 24cm |
|
出版发行:
|
出版地： 北京 出版社： 化学工业出版社 出版日期： 2008 |
|
内容提要:
|
本书系统地介绍了含硅聚合物的合成及应用技术，内容包括聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术，结构与性能，以及应用技术等。 |
|
主题词:
|
含硅高聚物 |
|
中图分类法:
|
O634.4 版次： 4 |
|
主要责任者:
|
琼斯 qiong si 著 |
|
主要责任者:
|
安藤亘 an teng gen 著 |
|
主要责任者:
|
乔努斯基 qiao nu si ji 著 |
|
次要责任者:
|
冯圣玉 feng sheng yu 译 |
|
次要责任者:
|
栗付平 li fu ping 译 |
|
次要责任者:
|
李美江 li mei jiang 译 |