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题名:
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完美曝光 wan mei pu guang / (美)瑞克·沙蒙著 , (摄影技术)张波译 |
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ISBN:
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978-7-115-21580-2 价格： CNY65.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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14,215页 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 人民邮电出版社 出版日期： 2010 |
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内容提要:
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本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。从直接影响曝光的两大因素——快门速度和光圈开始讲起，分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等，并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。 |
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主题词:
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曝光 摄影技术 |
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主题词:
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曝光 |
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主题词:
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摄影技术 |
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中图分类法:
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J41 版次： 4 |
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主要责任者:
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沙蒙 sha meng 著 |
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次要责任者:
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张波 zhang bo 译 |