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题名:
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极紫外光刻 [ 专著] ji zi wai guang ke / (美)哈利·杰·莱文森(Harry J. Levinson)著 , 高伟民译 |
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ISBN:
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978-7-5478-5721-2 价格： CNY128.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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206页 图，照片 24cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术出版社 出版日期： 2022 |
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内容提要:
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本书介绍了极紫外光刻技术的各个方面及其发展历程，不仅涵盖极紫外光源、极紫外光刻曝光系统、极紫外掩模板、极紫外光刻胶、极紫外计算光刻等方面，还介绍了极紫外光刻生态系统的其他方面，如极紫外光刻工艺特点和工艺控制、极紫外光刻量测的特殊要求，以及对技术发展路径有着重要影响的极紫外光刻的成本分析等内容。最后，全书还对满足未来芯片工艺节点要求的极紫外光刻技术的发展方向进行了探讨。 |
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主题词:
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紫外线 光刻系统 |
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中图分类法:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要责任者:
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莱文森 lai wen sen 著 |
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次要责任者:
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高伟民 gao wei min 译 |
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附注:
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元基石 |