题名:
现代离子镀膜技术   [ 专著] xian dai li zi du mo ji shu / 王福贞，武俊伟等编著 ,
ISBN:
978-7-111-68070-3 价格： CNY98.00
语种:
chi
载体形态:
14,370页 图 24cm
出版发行:
出版地： 北京 出版社： 机械工业出版社 出版日期： 2021
内容提要:
本书系统介绍了各种现代离子镀膜技术的原理、特点、装备、工艺、发展历程和应用。其主要内容包括概述、真空物理和等离子体物理基础知识、真空蒸发镀膜、辉光放电型离子镀膜、热弧光放电型离子镀膜、阴极电弧离子镀膜、磁控溅射镀膜、带电粒子流在镀膜中的作用、等离子体增强化学气相沉积、等离子体聚合，以及离子镀膜技术在太阳能利用、信息显示薄膜、装饰性薄膜、光学薄膜、硬质涂层、碳基薄膜、热电薄膜等领域和低温离子化学热处理中的应用。 
主题词:
等离子涂层   镀膜工艺
中图分类法:
TG174.442 版次： 5
主要责任者:
王福贞 wang fu zhen 编著
主要责任者:
武俊伟 wu jun wei 编著
责任者附注:
王福贞，教授，北京市有突出贡献专家，享受国务院津贴。现任中国真空学会薄膜委员会顾问委员。1976年开始从事离子镀膜技术研发、教学。先后取得活性反应离子镀膜机、空心阴极离子镀机、矩形平面大弧源离子镀膜机、柱状阴极电弧源、柱状磁控溅射靶、电弧离子渗金属等科研成果和授权多项专利。 
责任者附注:
武俊伟，博士，哈尔滨工业大学 (深圳) 副教授。现任深圳市真空技术行业协会副秘书长、美国真空镀膜协会 (SVC) 国际顾问委员会委员、深圳森丰真空镀膜相关的研究和产业技术提升工作。